제목 [정부과제제안서] HFC 가스 대체 저 GWP 반도체 공정가스 개발 및 공정 기술 개발
분류 성장동력산업 판매자 정한솔 조회수 33
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(총괄02-3세부) 반도체 식각공정 온실가스의 공정모니터링 및 분석기술 개발.hwp 135.5KB - - - 다운로드
데이터날짜 : 2023-03-02 
출처 : 국책연구원 
페이지 수 : 25 

 

ㅇ 반도체 공정에서 사용되는 HFC 가스보다 GWP가 낮은 대체 물질 중 HFC 계열 가스 개발과 이를 이용한 식각 기술 개발

 

- GWP HFC 가스는 산소가 포함된 fluoro-epoxide fluoro-ketone과 산소가 포함되지 않은 HFC로 분류

 

- GWP Fluoro-epoxide fluoro-ketone 계열과 HFC 계열 가스 합성 제조 및 정제 기술 개발

 

- GWP Fluoro-epoxide fluoro-ketone 계열과 HFC 계열 가스를 이용한 실리콘 산화막 및 실리콘질화막 식각공정 개발

 

- GWP Fluoro-epoxide fluoro-ketone 계열과 HFC 계열 가스를 이용한 식각공정에서 식각속도 각도 의존성 데이터와 플라즈마 상태의 실시간 분석 등을 통한 식각 메커니즘 규명

 

ㅇ 저 GWP 대체가스 (HFC, PFC )GWP 측정을 위한 고정밀 측정기술 및 대체 가스 신규 공정 고신뢰 공정 부산물 모니터링 기술 개발

 

- 온실가스 GWP 검증을 위한 GWP 측정 플랫폼 구축

 

- 실시간 측정기반 공정별대체가스별 가스물성 시뮬레이션 기술개발

 

- GWP 측정 신뢰도 확보를 위한 측정방법의 국제적 비교검증 기술개발

 

- 공정가스 및 배출가스 고신뢰 공정 부산물 가스 모니터링 기술 개발

 

본 연구개발의 구성은 크게 HFC 계열 대체가스를 합성, 정제하는 과제 (1세부과제), 상기 대체가스를 식각설비에 적용하여 기존 HFC를 대체할 실리콘 산화막 및 질화막 식각공정을 개발하고 최적화하는 과제(2세부과제), 개발된 신규 대체가스의 GWP 측정 및 공정모니터링 기술개발 과제(3세부과제)로 세분화됨

 


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