| 제목 | [반도체장비분야] 반도체 이온 주입장비 시장분석 |
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| 분류 | 성장동력산업 | 판매자 | 전아람 | 조회수 | 33 | |
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| 용량 | 3.02MB | 필요한 K-데이터 | 9도토리 |
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 [반도체장비분야] 반도체 이온 주입장비 시장분석.pdf |
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| 데이터날짜 : | 2024-02-20 |
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| 출처 : | 국책연구원 |
| 페이지 수 : | 47 |
가. 정의 및 필요성
(1) 정의
☐ 반도체 제조공정 중 웨이퍼 또는 기판에 반도체 특성을 부여해주는 특정
이온의 불순물을 주입하는 공정에 사용하는 이온 주입장치
❍ 반도체 제조공정 중 웨이퍼 또는 기판에 반도체 특성을 부여해주는 특정 이온
의 불순물을 주입하는 공정
❍ 이온 주입 장치에서 핵심적으로 사용되고 있는 이온소스 및 이온주입용 ESC
등 핵심공정부품
- 특히, 전력반도체용 이온소스 핵심부품을 위주로 먼저 진행 필요.
☐ 이온이 생성되는 이온 소스, 높은 에너지 또는 무선 주파수를 사용하여
이온이 정전기적으로 가속되는 가속기 및 이온이 타겟과 충돌하는 타겟
챔버로 구성
- 이온 주입설비의 전체 진공을 제어하는 진공장치
- 외부로부터 불순물을 공급받아 이를 이온화시키는 이온발생장치
- 온화된 불순물을 강한 전계로 추출하여 이온빔을 형성시키는 이온추출장치
- 에너지를 가속화하기 위하여 빔으로 추출된 이온의 극성을 변환시키는 이온변환장치
- 자기장과 각 이온의 질량차를 이용하여 공정에 필요한 이온만을 분석하는 질량분석장치
- 분석된 이온을 가속시키는 이온가속장치 및 이온빔이 주입되어야할 목표점을 정확히
설정해주는 엔드스테이션(End station)
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