제1장 개요

1.1. 작성 배경

□ 고도로 정제된 물을 의미하는 초순수(Ultrapure water)는 반도체･디스플레이 등 첨단 제조업에서 사용하는 산업 필수 인프라

 ＊ 초순수는 활용 목적에 따라 정제 사양(수중 불순물의 허용농도)에 차이가 있지만, 통상적으로 가장 엄격한 수준의 수질을 요구

     하는 반도체 제조용 공업용수를 초순수라 지칭
    - 나노미터 단위의 초미세 제조공정을 거쳐 생산되는 반도체는 미세한 오염원도 이상 패턴 및 결함의 원인이 될 수 있어 불순물을

      깨끗하게 씻어내야 함. 이때, 수중이온을 모두 제거하여 전류가 흐르지 않는 초순수로 표면을 세정
    - 반도체 제조용 초순수 수질 기준 : 비저항 18.2MΩ･cm 이상(25℃), TOC 1ppb 이하 등
     ※ 일반 수돗물의 비저항 : 1~5MΩ･cm 수준(25℃), Ca2+, Mg2+ 등 이온을 포함하고􀀁 있음

□ 초순수는 반도체 제조공정 전반의 수율을 좌우하는 핵심 소재로, 반도체 산업이 성장함에 따라 초순수의 중요성도 강조
 ＊ 반도체 제조 시 웨이퍼 식각, 세정 등의 단계에서 오염물 제거를 위해 다량의 초순수를 사용하는데, 12인치 웨이퍼 한 장을 만드는

      데에 7톤 이상의 초순수가 필요1)

 ＊ 반도체 제조공정의 불량률을 최소화하고 생산성을 향상하기 위해서는 안정적인 수질의 초순수를 충분히 공급하는 것이 중요
    - 미국 텍사스 오스틴의 삼성전자 반도체 공장은 ’21년 기록적인 한파로 용수공급이 중단되자 초순수 공정이 미가동되어 약 3~4천

      억 원의 손실이 발생한 바 있음

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