| 제목 | [정부과제제안서] 초고해상도 반도체 공정용 촉매 소재 및 적용 기술 개발 |
|---|
| 분류 | 성장동력산업 | 판매자 | 정한솔 | 조회수 | 42 | |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 용량 | 100KB | 필요한 K-데이터 | 5도토리 |
| 파일 이름 | 용량 | 잔여일 | 잔여횟수 | 상태 | 다운로드 |
|---|---|---|---|---|---|
 [RFP] 노광감도 30 mJcm2 이하의 초고해상도 반도체 공정용 촉매 소재 및 적용 기술 개발.hwp |
100KB | - | - | - | 다운로드 |
| 데이터날짜 : | 2023-03-02 |
|---|---|
| 출처 : | 국책연구원 |
| 페이지 수 : | 18 |
ㅇ 광산발생제(PAG: Photo Acid Generator) 및 광염기발생제(PBG: Photo Base Generator)는 광반응에 의해 산과 염기를 발생하여 보호기 해제, 용해화, 고분자 중합 등의 작용을 하며 반도체 미세 패터닝 공정 및 디스플레이, 코팅, 접착제, 잉크 등 주요한 마이크로/나노 전자재료 제조 공정에 필수적으로 사용됨
- 초고해상도 반도체 패터닝 공정용 화학증폭형 포토레지스트에서 PAG는 빛을 받으면 강산이 발생하여 주로 폴리머의 말단기를 끊어냄으로써 용해도의 변화를 일으켜 패턴 형성을 이루며, PBG는 산도를 조절하여 포토레지스트 윗부분에 경사진 패턴이 형성되고 미세 패턴 프로파일이 망가지는 문제점을 해결함
※ 본 서비스에서 제공되는 각 저작물의 저작권은 자료제공사에 있으며 각 저작물의 견해와 DATA 365와는 견해가 다를 수 있습니다.