| 제목 | [정부과제제안서] 디스플레이 절연막 식각용 150이하의 저온난화지수를 지니는 F 기반 PFC 대체가스 개발 |
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| 분류 | 성장동력산업 | 판매자 | 정한솔 | 조회수 | 234 | |
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| 용량 | 149KB | 필요한 K-데이터 | 3도토리 |
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 (총괄03) 디스플레이 절연막 식각용 150이하의 저온난화지수를 지니는 F 기반 PFC 대체가스 개발.hwp |
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| 데이터날짜 : | 2023-03-02 |
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| 출처 : | 국책연구원 |
| 페이지 수 : | 3 |
ㅇ 대면적 OLED TV 및 모바일용 LTPS TFT 디스플레이 제조과정 중 온실가스의 대부분은 식각/증착 공정 단계에서 사용되는 특수가스로 인해 발생되어 탄소 배출이 증가 되고 있으며 이를 최소화하기 위한 저온난화지수형 불소 특수가스의 개발이 필요함
ㅇ 현재, 디스플레이 절연막 건식 식각 공정에서는 CF4, SF6, NF3, 가스가 필수적으로 사용이 되지만 높은 온난화지수주1)로 인하여 F 기반 대체 가스* 개발이 시급함
주1) 온난화 지수 : CF4 ~ 5,700, SF6 ~ 22,200 , NF3 ~ 16,100
* F기반이란 PFC의 대체가스중 F비가 50 % 이상이거나 근접하는 경우를 말함
ㅇ OLED 디스플레이 Oxide TFT용 Gate insulator 패턴 형성을 위한 contact hole 공정에서 식각에 유리한 Fluorine-Rich PFC 가스 발굴 및 합성의 필요성 대두
ㅇ LTPS TFT용 절연막 식각 공정은 Contact Hole 및 Line 패터닝으로 구분되어 고선택비 및 높은 식각율과 고해상도 패터닝에 유리한 Fluorine-Rich PFC 가스 구조 발굴 및 합성이 필요함
ㅇ 이러한 측면에서, Oxide TFT 및 LTPF TFT용 절연막 패턴 형성을 위한 고효율화 식각 성능을 구현할 수 있으며 분자구조의 변형을 통해서 온난화 지수를 조절할 수 있는 Fluorine-Rich PFC 가스 개발과 이를 위한 가스 물성 예측 및 식각 특성 데이터 플랫폼을 구축하는 것은 매우 중요한 과제임
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