제목 | [정부과제제안서] HFC 가스 대체 저 GWP 반도체 공정가스 개발 및 공정 기술 개발 |
---|
분류 | 성장동력산업 | 판매자 | 정한솔 | 조회수 | 54 | |
---|---|---|---|---|---|---|
용량 | 521.5KB | 필요한 K-데이터 | 7도토리 |
파일 이름 | 용량 | 잔여일 | 잔여횟수 | 상태 | 다운로드 |
---|---|---|---|---|---|
(총괄02) HFC 가스 대체 저 GWP 반도체 공정가스 개발 및 공정 기술 개발.hwp | 156KB | - | - | - | 다운로드 |
(총괄02-1세부) HFC 가스 대체 용도의 저 GWP 반도체 공정가스 개발.hwp | 111KB | - | - | - | 다운로드 |
(총괄02-2세부) 저 GWP HFC 계열 가스를 이용한 플라즈마 식각 공정기술 개발.hwp | 119KB | - | - | - | 다운로드 |
(총괄02-3세부) 반도체 식각공정 온실가스의 공정모니터링 및 분석기술 개발.hwp | 135.5KB | - | - | - | 다운로드 |
데이터날짜 : | 2023-03-02 |
---|---|
출처 : | 국책연구원 |
페이지 수 : | 25 |
ㅇ 반도체 공정에서 사용되는 HFC 가스보다 GWP가 낮은 대체 물질 중 HFC 계열 가스 개발과 이를 이용한 식각 기술 개발
- 저 GWP HFC 가스는 산소가 포함된 fluoro-epoxide 및 fluoro-ketone과 산소가 포함되지 않은 HFC로 분류
- 저 GWP Fluoro-epoxide 및 fluoro-ketone 계열과 HFC 계열 가스 합성 제조 및 정제 기술 개발
- 저 GWP Fluoro-epoxide 및 fluoro-ketone 계열과 HFC 계열 가스를 이용한 실리콘 산화막 및 실리콘질화막 식각공정 개발
- 저 GWP Fluoro-epoxide 및 fluoro-ketone 계열과 HFC 계열 가스를 이용한 식각공정에서 식각속도 각도 의존성 데이터와 플라즈마 상태의 실시간 분석 등을 통한 식각 메커니즘 규명
ㅇ 저 GWP 대체가스 (HFC, PFC 등)의 GWP 측정을 위한 고정밀 측정기술 및 대체 가스 신규 공정 고신뢰 공정 부산물 모니터링 기술 개발
- 온실가스 GWP 검증을 위한 GWP 측정 플랫폼 구축
- 실시간 측정기반 공정별⸱대체가스별 가스물성 시뮬레이션 기술개발
- GWP 측정 신뢰도 확보를 위한 측정방법의 국제적 비교검증 기술개발
- 공정가스 및 배출가스 고신뢰 공정 부산물 가스 모니터링 기술 개발
ㅇ 본 연구개발의 구성은 크게 HFC 계열 대체가스를 합성, 정제하는 과제 (1세부과제), 상기 대체가스를 식각설비에 적용하여 기존 HFC를 대체할 실리콘 산화막 및 질화막 식각공정을 개발하고 최적화하는 과제(2세부과제), 개발된 신규 대체가스의 GWP 측정 및 공정모니터링 기술개발 과제(3세부과제)로 세분화됨
※ 본 서비스에서 제공되는 각 저작물의 저작권은 자료제공사에 있으며 각 저작물의 견해와 DATA 365와는 견해가 다를 수 있습니다.