스퍼터링(Sputtering)은 높은 에너지를 가지는 이온 입자가 고체 표면에 충돌할 때 고체 표면의 입자가 입사 이온의 운동량 전달에 따라 에너지를 얻어 물질 밖으로 튀어나오는 것을 효율적으로 제어하는 방법을 말함

▪스퍼터링은 입자의 운동량을 직접 전달하므로 합성하는 이온 에너지 제어에 따라 내구성 및 기능성 부여가 다양하게 가능하며 코팅 속도가 빠르고 대면적 코팅이 가능함

▪PVD 기반의 스퍼터링 기술은 가정용품 면도날부터 식기류, 장식용, 자동차용 기계부품, 금형, 및 절삭공구류에 이르기까지 대단히 넓은 응용범위 내에서 내구성과 윤활성, 기타 기능성 부여가 가능하여 에너지 절감을 위한 핵심적인 역할을 함

특히, 2009년 이후 자동차 부품에 DLC (Diamond-like Carbon) 코팅이 적용되면서 양산성, 신뢰성 및 기능성 (고경도, 저마찰, 전기적 특성 등)이 주요 핵심기술로 대두됨에 따라 합성 방법과 이를 위한 PVD 기반 장치 기술에 대한 요구는 지속적으로 증대함

따라서, 스퍼터링 법 등 PVD 방식은 공정에 사용되는 작동압력과 입사 이온 에너지의 크기에 따라 스퍼터링, 아크 방식 등으로 세분화 되었으며 필요에 따라 응력제어를 위한 다양한 가스 (Ar, SiH4, C2H2 등)도 혼용하여 사용하고 있음

▪특히, 치밀하고 높은 경도 및 윤활성이 우수한 코팅 막을 합성하기 위해서는 발생 된 이온이 코팅 막의 표면에 50 ~ 500 eV의 에너지를 가지고 충돌해야 하며 이를 위한 인가 전원장치 (플라즈마의 안정적 인출을 위한 전원장치 및 기판 바이어스 전압 장치) 등의 핵심품목의 역할이 매우 중요함