[ 목 차 ]

1. 개요
2. 산업 분석
3. 기술 개발 동향
4. 주요 플레이어 특허동향
5. 전략제품 기술 개발 전략
 

1. 개요 가. 정의 퍀 디스플레이용 용 산화물 반도체 소재는 고안정성 고이동도 디스플레이용 산화물 TFT , TFT 구현을 위해 사용되는 산화물 반도체 소재를 말함 ▪박막 트랜지스터 는 전계효과 트랜지스터 의 (TFT; Thin Film Transistor) (FET; Field Effect Transistor) 한 종류로 박막 의 형태로 되어 있어 주로 액정디스플레이 의 (Thin Film) (LCD; Liquid Crystal Display) 핵심 소자로서 의 스위치 작용을 함on/off 단면도 [ TFT ] 자료* : news.samsungdisplay.com 의 종류와 기술적 특징 [ TFT ] 분 류 기술적 특징 a-Si TFT (amorphous Si)  비정질 실리콘을 사용하며 공정이 간단하고 수율이 높음,  비정질이므로 전자이동도가 낮아 반응속도가 느리고 소비전력이 많으며 크기가 , , 커서 고해상도 디스플레이에 적합하지 않음 LTPS TFT (Low Temperature Polycrystalline Silicon)  레이저를 사용하여 비정질 실리콘을 녹이고 재결정화 시켜 다결정 실리콘을 만듦  다결정 실리콘은 비정질 실리콘에 비해 전자이동도가 배 정도 높으며100 , 소비전력이 낮음  기존 공정에 레이저 공정을 추가할 필요성이 있음 Oxide TFT  산화물은 비정질 실리콘에 비해 전자 이동도가 배 정도 높음10  보다는 전자이동도가 낮지만 제조단가가 낮음LTPS  와 제조 공정이 비슷하여 기존 라인을 그대로 활용 가능a-Si TFT , 자료* : Android Authority 2014 전략품목 현황분석 - 3 - 나. 필요성 퍀 는 대면적 고정세 패널을 구현하기 위해 현재의 보다 더 높은 TFT-LCD , , 3D a-Si TFT 이동도를 갖는 신규 를 필요로 하고 있고 는 용으로 대면적에서의 균일도를 TFT , AM-OLED TV 보장할 수 있는 고안정성의 신규 를 필요로 하며 플렉시블 디스플레이는 저온 공정에서 TFT , 안정한 소자 확보가 가능한 와 투명디스플레이 구현에 적합한 신규 를 필요로 TFT backplane 하는데 이러한 모든 요구사항을 만족 시킬 수 있는 산화물 기술이 필요TFT 1) ▪고안정성 고이동도 산화물 를 구현하기 위해 신규 반도체 재료를 개발하고 계면보호 기술을 , TFT 도입하는 공정의 기술로써 전기적으로 매우 안정한 산화물 를 제조하는 것임know-how TFT ▪저가격 소재 사용으로 고성능 제공이 필요TFT ▪기술의 중요성 산화물 는 평판 디스플레이의 핵심 소자로서 차세대 디스플레이 초대형 초고속 : TFT ( / 대면적 플렉서블 디스플레이 개발 시 필수임TFT-LCD, AMOLED, ) 2) 의 종류와 이동도 비교 [ TFT ] 자료* : SHARP IGZO 퍀 산화물 기술의 필요성 폭 플렉서블 기판에 산화물 박막 트랜지스터 증착을 TFT : 150mm 위한 스퍼터 장비 실용화 기술 개발 고품위 원천 기술 개발 그리고 , Plastic AMOLED , 디스플레이 기술 사업의 결과물로서 얻어진 기술로서 디스플레이 양상 공정용 산화물 LASA 에 대한 공정 개발에 필요한 소자 기술임TFT 3)