< 목 차 >

1. 개요

2. 산업 및 시장 분석

3. 기술 개발 동향

4. 특허 동향

5. 요소기술 도출

6. 전략제품 기술로드맵 ·

1. 개요 가. 정의 및 필요성 (1) 정의  디스플레이 공정에서 세정 공정은 레이저 클리닝은 오염물질, 파티클을 제거하는 공정을 지칭함  디스플레이는 미세공정을 통해서 생산되기 때문에 아주 작은 먼지라도 패턴 결함, 절연막 불량 등 제품에 치명적인 영향을 미칠 수 있으며, 세정은 디스플레이 제조 과정에서 발생하는 파티클이나 이물질을 제거하여 제품의 품질과 수율을 높이는 역할을 함  레이저 세정은 빔의 조사 형태를 시간 공간적으로 자유롭게 변화시킬 수 있다는 점에서 매우 유연한 수단으로 물리적 세정공정의 대안으로 다양한 레이저를 이용한 여러 가지 세정 공정이 개발되고 있음 [ 반도체·디스플레이 장비 내 디스플레이 건식 레이저 세정 시스템 위치 ] * 자체구성 * 출처: 한국과학기술연구원 복합소재기술연구소, ACM, KLA Tencor, BOYN Instrument, 나노기술연구협의회, 파웰코퍼레이션  Glass가 처음 Fab에 투입되어 진행되는 초기 세정을 비롯해 LTPS(Low-Temperature Polycrystaline Silicon), 증착, 봉지, 모듈 등 디스플레이 제조 공정 전후에는 오염 물질을 제거하기 위한 세정 작업이 진행됨 디스플레이 건식 레이저 세정 시스템7 [ 포토공정 중 진행되는 세정 공정 ] * 출처 : samsung newsroom, 2020  현재 가장 널리 쓰이는 화학적 세정은 환경 부담이 크고, 초음파 세정, 스프레이 세정과 같은 액상 세정 공정은 응용 범위 제약이 따르며, 모재 손상 및 부유 입자 재부착 등의 기술적 문제가 존재함  또한, CO2, 아르곤 미세입자를 이용한 건식 세정은 효과적이지만 장치가 복잡하며 유지비가 비싸다는 문제점이 있음  레이저 세정은 빔의 조사 형태를 시간 공간적으로 자유롭게 변화시킬 수 있다는 점에서 매우 유연한 수단으로 물리적 세정공정의 대안으로 다양한 레이저를 이용한 여러 가지 세정 공정이 개발되고 있음  미세 입자를 제거하기 위해서는 입자의 부착력 보다 높은 충격을 순간적으로 인가해야 하므로, 레이저 세정에는 MW/cm2에서 TW/cm2 수준의 수간 조사도를 지닌 나노초 ~ 펨토초 펄스레이저가 주로 사용